设备名称：先进微纳靶材制备技术

联系人及邮箱：赵家瑞 jrzhao@pku.edu.cn

设备位置：2008实验室

主要功能：金属薄膜、高分子薄膜、DLC靶、碳纳米管靶、纳米线阵列靶

设备名称：先进液膜/液晶靶制备设备

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设备位置：2008实验室

主要功能：实现高重频激光连续打靶

设备名称：热蒸镀膜设备

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设备位置：2008实验室

主要功能：热蒸镀膜设备，主要由电子束蒸发室、储片室、电子枪、电阻蒸发源、膜厚检测系统、机械手、真空系统、全自动控制及水冷报警保护系统等组成。可实现基片在真空条件下在蒸发室和储片室之间传送，可通过储片室装取样品，无需打开蒸发室，在节省时间的同时避免因蒸发室频繁暴露大气环境影响真空抽速及真空极限

设备名称：磁控溅射单元

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设备位置：2008实验室

主要功能：（a）适用于开发纳米级单层、多层及复合膜层等； （b）适用于制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜、介质膜；例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、氮化钛、氮化铬、ITO、二氧化硅等； （c）适用于三靶单独溅射、依次溅射、共同溅射；

设备名称：探针式表面轮廓仪

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设备位置：2004实验室

主要功能：KLA P-7 探针式台阶仪可以对台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力进行2D和3D测量，其扫描可达150mm而无需图像拼接。

设备名称：手套箱

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设备位置：2008实验室

主要功能：提供干燥无氧的环境，用于存放实验样品

设备名称：激光雕刻机

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设备位置：粗抽泵房

主要功能：HC-6045该系列激光雕刻机采用C02封离式玻璃管激光器，先进的DSP数控技术与进口直线导轨和高速步进电机组成数控系统。保证雕刻切果边滑无波纹;操作简单的双红光对焦装置。使的寻找焦点及准确有快捷，强大软件功能可以对图形进行多种设置,设备具有断电续雕功能以及水温水压报警保护功能。

设备名称：检漏仪

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设备位置：靶场实验室

主要功能：ELD500氦质谱检漏仪可在各种应用中实现快速精确的泄漏检测，能够完全移动且具有简单的控制界面。ELD500检漏仪不仅能耗低，还具有延长的保修期和使用寿命长的离子源，在保证优质性能的同时为您提供超低使用成本。